旅途记事

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電雙層結構

機理  -  A

機理 - C

機理 - D

工業循環水，在密閉式冷卻水塔內的水質導電度一般在 4500μOhm 以上。除了容易結水垢之外，更因爲水中 H＋的含量大幅增加，造成與冷卻水接觸的金屬界面嚴重腐蝕。HTI的負電子(e－)在水中産生強勢的負電位，使水質導電度長期保持在1800 ～ 2200 μs/cm之間，致使水垢難以聚積，腐蝕也難以發生。
 

1） 水溫在 50℃以下，需時三至五個月，水網的導電度保持在 1800 ～ 2200 μs/cm 。水網的導電度越高，除銹速度越慢。
2） 水溫在 50℃～ 70℃，需時二至三個月，水網的導電度保持在 1800 ～ 2200 μs/cm 。水網的導電度越高，除銹速度越慢。
3） 水溫在 70℃以上，需時一至二個月，水網的導電度保持在 1800 ～ 2200 μs/cm 。水網的導電度越高，除銹速度越慢。

HTI使金屬表面原有水垢剝落所需時間：  

密閉式冷卻水塔內的水質，含有嚴重腐蝕因數，如溶氧，氫離子，溶在水中的二氧化碳， 碳酸根離子…...等。HTI 電偶層的負電子快速還原這些腐蝕因數，讓水質維持堿性， 阻止腐蝕的破壞。

 在冷卻循環水系統中，蒸發過程不斷進行，使水中的含鹽量越來越高，所以必需定期排掉一部分含鹽量高的水，補充含鹽量低的新鮮水，以維持冷卻水的品質。 高濃度的冷卻水，其高濃度所含的鹽類成份主要是 Ca+2 ， Fe+2 , Fe+3 ， O2(g) ，水與鐵管接觸，不斷溢出 CO2 , HCO3 - .....…。

PH 值一般做爲工業冷卻循環水允許的濃度指標，工業冷卻水的管理目標:  PH = 7.5 ~ 8.3

 HTI在水溶液中置入大量的負電子，負電子的還原作用，讓水溶液中的鹽類快速還原 成固體物沈澱，增加水中的 TDS 沈澱物。讓水質形成強堿性。因爲水溶液中存在大量的負電子，所以電偶層技術能夠讓高濃縮倍數的冷卻循環水系統既不生垢、也不腐蝕。 大量降低排汙水量及補給水量的效果，可以大大節約冷卻水的用水量。 

HTI 電偶層技術可以允許冷卻循環水的濃縮濃度高達 9 ~ 11。只有 HTI 電偶層技術可以讓工業冷卻循環水的濃度在 9 以上， 而不會讓冷卻水管路、設備系統腐蝕，卻可以節省系統大量的補給水用量，同時因爲冷卻水中已經沒有， Fe+2 , Fe+3 ...…等離子，系統的熱交換效益可以提升 2~3 倍，讓系統也同時達到節能效果。

機理 - E

HTI 電偶層的使用，不僅可以阻止新垢層的産生，而且可以剝落原有積垢，使熱交換器的管道表面清潔幹淨，大大提高了熱交換效率。 由此，顯著降低了能耗，爲企業帶來巨大的經濟效益。 

電偶層理論

機理  - B

在通電後，電子發生器産生負電子，通過電極向四周液體中發射大量的負電子。電子發生器所消耗的電能非常小。

基于膠體理論：隨著大量負電子進入水中，水中帶正電荷的金屬離子與負電子發生中和反應，水中懸浮絮狀物變成分散的固體顆粒沈澱，水質變清。同時，由于水與管壁的電位差減小趨于零，因而減小了金屬管壁上的靜電吸附力，垢層難以形成。 已形成的垢層，也因吸附力減弱，開始脫落。電位差減小，金屬離子釋出被抑制，停止了氧化反應，金屬管壁的腐蝕不再發生。

電子的能量很大，具有強大的還原能力，並具有很強的滲透穿刺能力。當水中存在大量負電子時，帶正電荷的細菌，如蛋白質、生物細菌等均能被即刻消滅。

機理 - F

               鍋爐冷凝水的溫度與水中溶氧的關系

若給水中帶有過量的溶解氧，就會造成給水管道及鍋爐本體金屬的腐蝕，特別是在消除結垢以後，更爲突出。因此，去除水中溶氧也是防止管道、鍋爐腐蝕的關鍵措施之一。 此外，鍋爐冷凝水的保濕效果也取決于水中溶氧的含量大小。 HTI能夠快速消除水的溶氧。

一般鍋爐冷凝水中去除水中溶氧的方式有：

                        *  物理法： 熱力除氧、真空除氧、解析除氧
                        *  化學法： 鋼屑、亞硫酸鈉、聯氨

其它方法，還有解板除氧、樹脂除氧。。。等。  所有除氧方法，除了化學法可以有效除氧外，其它方法均無法有效徹底除氧。雖然化學法可有效除氧，但對管壁、爐壁的腐蝕也極爲嚴重，很難控制。 目前，市場上出現的膜法去除溶氧技術還有待實踐檢驗，膜法易受汙物汙染而降低實用效果仍是一大困擾。

HTI電雙層産生的負電子不斷地進入水中後，在水中持續地進行還原作用，達到以下功效：
          *   二、三價鐵離子還原成鐵原子；
          *   氫離子和溶氧還原成氫氣與水；
          *   二價氫氧化鐵 Fe(OH)2 和氫離子還原成鐵原子與水；
          *   三價氫氧化鐵 Fe(OH)3 和氫離子還原成二價鐵原子與水；
          *  水溶性正離子無機鹽或一般的水溶性正離子被快速還原成中性的結晶顆粒。
經過這樣持續的還原作用，鍋爐內壁、管壁潔淨，無腐蝕，無水垢沈澱附著現象再發生。

 

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